一、真空箱式爐應用領域
該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達15pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。
三、真空箱式爐規格型號
設備型號 | ZKL1200-Ⅰ | ZKL1200-Ⅱ | ZKL1200-Ⅲ | ZKL1200-Ⅳ | ZKL1200-Ⅴ |
溫度 | 1200℃ | 1200℃ | 1200℃ | 1200℃ | 1200℃ |
控制精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
爐膛尺寸（mm） | 150*150*200 （H×W×D） | 200*200*300（H×W×D） | 250*250*300（H×W×D） | 300*300*400（H×W×D） | 400*400*500（H×W×D） |
發熱元件 | 進口電阻絲 | 進口電阻絲 | 進口電阻絲 | 進口電阻絲 | 進口電阻絲 |
真空度 | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa | 66.6pa |
冷態壓升率 | ≦10～20pa/h | ≦10～20pa/h | ≦10～20pa/h | ≦10～20pa/h | ≦10～20pa/h |
溫控方式 | 可控硅模塊自控 |
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